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電渦流傳感器

電渦流位移傳感器用于光刻機中晶圓定位-eddy

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發布日期:2017-02-27 瀏覽:

       

 

 

生產集成電路的簡要步驟:
- 利用模版去除晶圓表面的保護膜
- 將晶圓浸泡在腐化劑中,失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路
- 用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質
- 其中光刻機就是利用紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備

一片晶圓可以制作數十個集成電路,根據模版光刻機分為兩種:

- 模版和晶圓大小一樣,模版不動
- 模版和集成電路大小一樣,模版隨光刻機聚焦部分移動

其中模版隨光刻機移動的方式,模版相對光刻機中心位置不變,始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為目前的主流。


德國米銥提供的電渦流探頭可以精確定位晶圓,通過三個電渦流探頭測量鏡頭到底面金屬平臺的距離,確保鏡頭到晶圓的平行度和距離。




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